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Mar 19, 2023

Meta der Gradientenpermittivität

Wissenschaftliche Berichte Band 6,

Scientific Reports Band 6, Artikelnummer: 23460 (2016) Diesen Artikel zitieren

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Details zu den Metriken

In dieser Arbeit wurden ein Gradienten-Permittivitäts-Metastrukturmodell (GPMS) und seine Anwendung in der hochauflösenden Bildgebung vorgeschlagen und diskutiert. Das vorgeschlagene GPMS besteht aus abwechselnden metallischen und dielektrischen Filmen mit einer Gradientenpermittivität, die Stehwelleninterferenzmuster von Oberflächenplasmonen (SPs) mit einer Superauflösung unterstützen können. Mithilfe der strengen numerischen FDTD-Simulationsmethode wurde das GPMS sorgfältig simuliert und dabei festgestellt, dass die Periode des SPs-Interferenzmusters bei einfallendem Licht von 532 nm nur 84 nm beträgt. Darüber hinaus wurde auch die mögliche Anwendung des GPMS für die hochauflösende Weitfeldbildgebung diskutiert und die Simulationsergebnisse zeigen, dass eine Bildauflösung von unter −45 nm basierend auf der mikroskopischen Methode der plasmonischen Strukturbeleuchtung erreicht werden kann, was einen 5,3- Im Vergleich zur herkömmlichen Epifluoreszenzmikroskopie wurde eine um ein Vielfaches verbesserte Auflösung erreicht. Darüber hinaus kann das vorgeschlagene GPMS-Modell neben der hochauflösenden Bildgebungsanwendung auch für die Nanolithographie und andere Bereiche angewendet werden, in denen hochauflösende Muster benötigt werden.

Oberflächenplasmonen (SPs) sind elektromagnetische Oberflächenwellen, die aufgrund der kollektiven Schwingungen freier Elektronen des Metalls an der Grenzfläche zwischen Metall und Dielektrikum eingefangen werden1. Ihre faszinierenden Eigenschaften wie starke Lokalisierung und große Impulseigenschaften in der Ebene wurden für Anwendungen in Biosensoren2,3, nichtlinearer Optik4 und hochauflösender Bildgebung5,6 genutzt. Der Wellenvektor kspof SPs kann höher sein als der von angeregtem Licht in Luft (k0), indem die Permittivität dielektrischer und metallischer Materialien sorgfältig ausgewählt wird. Daher sind SPs ideale Kandidaten für die Auflösungsverbesserung. In den letzten Jahrzehnten wurde die Superauflösung von SPs umfassend untersucht und in perfekten Linsen7, silbernen Superlinsen8,9 und Hyperlinsen10 angewendet. Diese Geräte haben das große Potenzial für die hochauflösende Nahfeldmikroskopie. Darüber hinaus können SPs auch im mikroskopischen Fernfeld-Bildgebungsmodus eingesetzt werden, beispielsweise in der Stehwellen-Oberflächenplasmonresonanzfluoreszenzmikroskopie (SW-SPRF)11,12,13 und der strukturierten Beleuchtungsmikroskopie (SIM)14,15. Bei diesen beiden Methoden werden stehende SP-Wellenmuster als Beleuchtungsmuster verwendet. Im Vergleich zur konventionellen Epifluoreszenzmikroskopie kann in der Regel eine Auflösungssteigerung von mehr als dem Doppelten der lateralen Auflösung erreicht werden. Da die Auflösungsverbesserung dieser Mikroskope von der räumlichen Frequenz der Beleuchtungsmuster abhängt, ist die Erhöhung des ksp von entscheidender Bedeutung. Frühere Studien zeigen, dass SPs mit hoher Frequenz an der Oberfläche einer einzelnen Metallschicht angeregt werden können14,16. In den letzten Jahren wurden auch große Anstrengungen unternommen, um das KSP durch den Einsatz von Multilayern weiter zu verbessern. G. Bartal et al. bauten eine 2D-Silber-Siliziumnitrid-Luft-Plattform, um einen 70-nm-Brennfleck von SPs mit kurzer Wellenlänge zu realisieren17. Allerdings weist die bei diesem Design verwendete dielektrische Schicht eine ziemlich hohe Permittivität auf, die die Nahfeldwechselwirkung zwischen der biologischen Probe und dem Metallfilm blockieren kann. Hyperbolische Metamaterialien, eine Art anisotropes Material hinsichtlich der Permittivität, das einen sehr hohen ksp unterstützen kann, erregen in letzter Zeit immer mehr Interesse18,19,20,21,22,23. Obwohl die hyperbolischen Materialien sorgfältig entworfen werden können, um einen hohen Wellenvektor von SPs zu erhalten, erfordern sie anspruchsvolle und kostspielige Nanofabrikationsprozesse und der Fehler jedes Paares aus Metall/dielektrischen Materialien würde die Genauigkeit der Ergebnisse beeinflussen. Daher werden weniger Paare oder alternative Formen hyperbolischer Metamaterialien bevorzugt, um kurze Wellenlängen von SPs zu erreichen und gleichzeitig den Nanofabrikationsprozess zu erleichtern.

In diesem Artikel wird ein recht einfaches und elegantes Modell, die sogenannte Gradient Permittivity Metamaterial Structure (GPMS), vorgestellt, um SPs mit kurzer Wellenlänge zu realisieren. Diese Art von Struktur besteht aus drei aufeinanderfolgenden dielektrischen Filmen mit verringerter Gradientenpermittivität und dünnen Silberfilmen zwischen den dielektrischen Filmen. Mithilfe der Finite-Differenzen-Zeitdomänen-Methode (FDTD) wird das vorgeschlagene GPMS sorgfältig simuliert und analysiert, um herauszufinden, dass die stehende SPs-Welle mit einer Periode von 84 nm in einer Dimension für eine einfallende Wellenlänge von 532 nm erhalten werden kann. Darüber hinaus wird theoretisch die Möglichkeit demonstriert, die Bildauflösung durch den Einsatz des GPMS in der plasmonischen Strukturbeleuchtungsmikroskopie zu verbessern. Es zeigt sich, dass in GPMS eine eindimensionale Auflösung von 41 nm erreicht werden kann. Abschließend wird auch der physikalische Mechanismus zur Unterstützung kurzwelliger SPs in GPMS diskutiert.

Abbildung 1 zeigt das schematische Diagramm des vorgeschlagenen GPMS. Abbildung 1(a) zeigt die perspektivische Ansicht des GPMS und die Querschnittsansicht ist in Abb. 1(b) dargestellt. Wie zu erkennen ist, wird als Substratmaterial SiO2 mit einer relativen Permittivität von εS = 2,13 verwendet. Die Dicke des Substrats wird auf dS = 200 nm eingestellt. Als nächstes wurde eine Silberschicht (die Permittivität beträgt −11,75 + 0,37i24 bei einer einfallenden Wellenlänge von 532 nm) mit einer Dicke von dA = 100 nm auf der Oberseite des Substrats abgeschieden. Um Oberflächenplasmonwellen zu erzeugen, wird eine Subwellenlängen-Schlitzanordnung mit einer Breite von W = 100 nm für jeden Schlitz in einer Silberschicht perforiert und der Schlitz wird dann mit Al2O3-Material (εAl = 3,138) gefüllt. Das Schlitzarray hat eine Periode von P = 1 μm. Dies liegt daran, dass die Fourier-Transformation des periodischen Schlitzarrays breitbandige Wellenvektoren enthält, sodass das einfallende Licht in die SP-Welle eingekoppelt werden kann, wenn die Impulsanpassungsbedingung erfüllt ist. Das Merkmal der Schicht (in Abb. 1(b) als gestricheltes Rechteck markiert) ist in Abb. 1(c) dargestellt. Der Grund, warum die Periode des Schlitzarrays mit 1 μm gewählt wird, liegt darin, dass die Ausbreitungslänge des Oberflächenplasmonpolaritons mithilfe der Gleichungen (2.6) und (2.11) in Referenz 1 zu 1 μm berechnet wird. Dadurch wird sichergestellt, dass die Das gesamte Arbeitsfeld kann durch die stehende Welle von SPs abgedeckt werden. Auf der Oberseite des Silberschlitzarrays wurden nacheinander GPMS mit vier aufeinanderfolgenden Schichten aus Al2O3, Ag, SiO2 und Ag mit der gleichen Dicke von d = 20 nm aufgetragen. In Übereinstimmung mit der wässrigen Umgebung vieler biologischer Proben wurde auf der Oberseite der Struktur ein 100 nm dicker Wasserfilm angebracht, der als Objektivebene in der Strukturbeleuchtungsmikroskopie dient.

(a) Die perspektivische Ansicht und (b) die Querschnittsansicht des GPMS, (c) Die Draufsicht des GPMS in einem 100-nm-Ag-Film, in (b) als gestrichelte Rechtecke markiert.

Zur Modellierung und Analyse des GPMS wurde die Simulationssoftware „Finite-Difference-Time-Domain“ (FDTD) (Lumerical FDTD Solutions) verwendet. Dreidimensionale Simulationen wurden mit einer in z-Richtung einfallenden TM-Polarisationsebenenwelle mit einer Wellenlänge von λ0 = 532 nm durchgeführt. Der Einschub in Abb. 1(a) zeigt die Richtung der einfallenden sichtbaren EM-Wellen in Bezug auf den Querschnitt des entworfenen GPMS.

Frequenzbereichsfeld- und Leistungsmonitore in FDTD wurden verwendet, um die Verteilungen des elektrischen Felds auf verschiedenen Ebenen zu untersuchen. Die Ergebnisse sind in Abb. 2 dargestellt. Abbildung 2 (a) zeigt die x-Komponente des elektrischen Felds in der Ebene y = 0, also die Grenzfläche zwischen der obersten Silberschicht und dem Wasserfilm. Der Farbbalken stellt die elektrische Intensität dar. Es ist deutlich zu erkennen, dass die stehende Welle der Oberflächenplasmonenwelle im Ag-Film und im Wasser aufgrund der Interferenz der durch das Subwellenlängen-Metallschlitzarray angeregten SPs erzeugt wird. Allerdings ist die Intensitätsverteilung der SP-Stehwelle in der Wasserschicht nicht sehr gleichmäßig. Danach wurde die elektrische Intensität entlang zweier Linien (Linie 1 und Linie 2 sind schwarze gestrichelte Linien in Abb. 2(a)) extrahiert und ist in Abb. 2(b) dargestellt. Wie man sehen kann, ist die Intensität für Linie 2 in einer Einheitszelle von GPMS größer als die für Linie 1. Darüber hinaus nimmt die Intensität der SPs in Form einer exponentiellen Abschwächung ab, wenn sich die SPs-Welle von z = 160 nm (Grenzfläche zwischen SiO2- und Ag-Film) bis z = 180 nm (Grenzfläche zwischen Ag- und Wasserschicht) ausbreitet. Bei z = 180 nm weist die SPs-Welle einen Unterpeak auf, was bedeutet, dass das elektrische Feld etwas verstärkt wurde. Die Eindringtiefe der SP-Welle in den Wasserfilm kann ebenfalls ermittelt werden. Aus der blauen Kurve in Abb. 2(b) geht hervor, dass die stehende Welle in Linie 1 eine Eindringtiefe von etwa 24 nm hat. Während für Linie 2 die Eindringtiefe etwa 32 nm beträgt, was etwas größer ist als die von Linie 1. Im Allgemeinen liegt die Eindringtiefe der SP-Welle in der Größenordnung von etwa 30 nm. Die Verteilung der x-Komponente der Elektrizität in der Ebene z = 192 nm (12 nm über der Grenzfläche des Ag/Wasser-Films) ist in Abb. 2 (c) dargestellt. Abbildung 2(d) ist der Querschnitt der Intensitätsverteilung entlang der weißen gestrichelten Linie in Abb. 2(c). Bitte beachten Sie, dass aufgrund der Symmetrie der Struktur nur die Hälfte der Linie eingezeichnet ist. Aus diesem Bild wird ermittelt, dass die Periode der stehenden Welle von SPs 84 nm beträgt und die Halbwertsbreite (FWHM) etwa 56 nm beträgt. Folglich beträgt die Periode des SPs-Interferenzmusters für unser GPMS-Modell nur 0,16 λ0.

(a) Die Verteilung der x-Komponente des elektrischen Feldes in der y = 0-Ebene. (b) Die Intensität des Profils des elektrischen Felds entlang der Linien in (a). Die blaue Kurve steht für Linie 1 und die rote Kurve stellt Linie 2 dar. (c) Die Verteilung der x-Komponente des elektrischen Felds in der Ebene z = 192 nm . Der Farbbalken in (a) und (c) gibt die Intensität des elektrischen Feldes an. (d) Der Querschnitt der elektrischen Feldintensitätsverteilung an der weißen gestrichelten Linie in (c).

Das vorgeschlagene GPMS könnte für die hochauflösende Bildgebung mit einem plasmonischen Strukturbeleuchtungsmikroskopmodus angewendet werden. Das schematische Diagramm des Prozesses des GPMS, der in der hochauflösenden Bildgebung verwendet wird, ist in Abb. 3 (a) dargestellt. Um seine Fähigkeit zur Auflösungsverbesserung zu demonstrieren, wurde das Bild eines Quantenpunkts (QD) berechnet. Das QD-Objekt wurde auf der Grenzfläche zwischen den oberen Ag- und Wasserfilmen abgeschieden. Das stehende SPs-Muster dient als strukturiertes Beleuchtungsmuster zur Beleuchtung des QD-Objekts und das SPCE-Signal (Surface Plasmon Coupled Emission) des QD kann mit einer CCD-Kamera (Charge Coupled Device) im Fernfeld aufgezeichnet werden (siehe Abb. 3). (A)). Zur Erstellung der Bildrekonstruktion müssen mindestens drei Zwischenbilder mit unterschiedlicher Phase des Beleuchtungsmusters aufgenommen werden25. Die Phasenänderungen können durch Einstellen des Einfallswinkels θ des einfallenden Lichts erhalten werden15. Hier wurde eine Folge von drei Bildern mit 0, 120, –120° Phasen berechnet. Durch Drehen des GPMS entlang der z-Achse kann die Ausrichtung des Beleuchtungsmusters sowohl in x- als auch in y-Richtung angepasst werden. Zur Rekonstruktion des hochauflösenden Bildes wurde der numerische Algorithmus der Stehwellen-Totalreflexionsfluoreszenzbildgebung (SW-TIRF) verwendet25.

(a) Optische Konfiguration von SPs, die von GPMS erzeugt wurden. Das stehende Interferenzmuster, das von zwei benachbarten, sich gegenläufig ausbreitenden SPs erzeugt wird, wird verwendet, um die Quantenpunkte (oder fluoreszierenden Perlen) im Wasserfilm und die Punktspreizfunktion von (b) einem beugungsbegrenzten System, (c) x- anzuregen. rekonstruiertes Bild in Richtung, (d) FWHM-Vergleich zwischen herkömmlichem Epi-Fluoreszenzmikroskopbild (blaue Kurve) und dem hochauflösenden Bild unter Verwendung des GPMS (rote Linie), (e) rekonstruiertes Bild in x- und y-Richtung.

In unserem Simulationsmodell wurde ein 10-nm-QD mit einer Emissionswellenlänge von 600 nm verwendet, um die Punktspreizfunktion (PSF) des Standardsystems zu erreichen und die Auflösung des GPMS zu charakterisieren. Im numerischen Modell wurde das Immersionsölobjektiv mit einer NA von 1,42 berücksichtigt. Die Ergebnisse sind in Abb. 3 dargestellt. Abbildung 3(b) zeigt das Bild der PSF des QD mit einer herkömmlichen homogenen Beleuchtung. Abbildung 3(c) zeigt das rekonstruierte Bild des QD unter Verwendung des in GPMS erzeugten stehenden SPs-Musters in x-Richtung als Beleuchtungslicht. Abbildung 3(d) zeigt einen Vergleich des PSF-Profils von Abb. 3(b,c). Aus dem Vergleich kann man erkennen, dass die FWHM der herkömmlichen Epi-Fluoreszenzmikroskopie etwa 218 nm beträgt und die FWHM für die GPMS-Beleuchtungsmikroskopie nur etwa 41 nm beträgt. Dies bedeutet, dass die Bildauflösung der GPMS-Beleuchtungsmikroskopie etwa das 5,3-fache der herkömmlichen Epi-Fluoreszenzmikroskopie beträgt. Dieses Ergebnis ist besser als SIM26 und zuvor gemeldete PSIM14,15,27. Es ist zu beachten, dass eine zweidimensionale Verbesserung der Bildauflösung des QD auch durch die Verwendung des in GPMS erzeugten SPs-Musters zur Beleuchtung des QD sowohl in x- als auch in y-Richtung erzielt werden kann. Dies kann erreicht werden, indem die Ausrichtung des stehenden SP-Wellenmusters über die Drehung des GPMS dynamisch gesteuert wird. Abbildung 3(e) zeigt das rekonstruierte Bild des QD unter Verwendung des stehenden SPs-Musters zur Beleuchtung sowohl in x- als auch in y-Richtung. Offensichtlich wurde die Bildauflösung in Abb. 3 (e) sowohl in x- als auch in y-Richtung verbessert. Wie jedoch deutlich zu erkennen ist, gibt es um die zentralen Punkte in Abb. 3(c, e) Nebenkeulenartefakte, ähnlich wie bei anderen hochauflösenden Methoden, die auf der Interferenzmethode basieren 28, 29. Diese Artefakte können durch den Einsatz geeigneter numerischer Verarbeitungsmethoden leicht entfernt werden, sodass die Bildqualität weiter verbessert werden kann30.

Um den physikalischen Mechanismus des GPMS besser zu verstehen, wird der von ihm unterstützte SPs-Wellenvektor analytisch über die Maxwell-Gleichungen abgeleitet. Um dem GPMS zu folgen, wird ein analytisches Rechenmodell erstellt, wie in Abb. 4 dargestellt, und die Permittivität des Materials in jeder Schicht ist in der Abbildung dargestellt. Bitte beachten Sie, dass sich das Koordinatensystem der xz-Achse aufgrund der einfacheren theoretischen Analyse von dem des GPMS in Abb. 1 unterscheidet. Ein TM polarisierte elektromagnetische Welleneinfälle entlang der z-Achse. Es wird angenommen, dass die SPs-Welle an der Schnittstelle zwischen Schicht 1 und Schicht 2 angeregt wird.

Hier stehen εi und di für die Permittivität bzw. Dicke des Materials in der i-ten Schicht.

Aus den Maxwell-Gleichungen lässt sich die Komponente des elektrischen und magnetischen Feldes ermitteln.

In der Region A (z < 0)

und in der Region BE,

wobei m = 2–5, in Region F kann die Komponente des elektrischen und magnetischen Feldes wie folgt abgeleitet werden:

Bei den Randbedingungen an fünf Grenzflächen müssen also die x-Komponente des elektrischen Feldes und die y-Komponente des magnetischen Feldes stetig sein. Dann kann man an der Schnittstelle von z = 0, E1x = E2x, H1y = H2y die folgenden Gleichungen erhalten:

Dann kann die folgende Gleichung erhalten werden:

Ebenso kann man die folgende Gleichung bei z = d2 + d3 + d4 + d5 erhalten:

An der Schnittstelle z = d2 + d3 + d4,

Bei z = d2 + d3,

Und bei z = d2,

Angenommen A = A21/A22, B = A51/A52, C = A41/A42, D = A31/A32, dann kann man die folgenden Gleichungen erhalten:

In den obigen Gleichungen gilt:

Dabei steht kiz für die Komponente des Wellenvektors der SPs in der i-ten Schicht, die senkrecht zur Grenzfläche verläuft, und β ist die Komponente parallel zur Grenzfläche im GPMS. Das Symbol k0 stellt den Wellenvektor des einfallenden Lichts dar und di (i = 1–6) steht für die Dicke der i-ten Schicht. Anschließend wurde die unterschiedliche Permittivität jeder Schicht in GPMS berücksichtigt und der Wellenvektor von SPs in GPMS kann durch Kombinieren der Gleichungen (6a–6f) zu β = 0,0377 rad/nm berechnet werden. Als Ergebnis wurde die Wellenlänge von SPs in GPMS mit 166 nm berechnet. Daher beträgt die Periode der stehenden Interferenzwelle von SPs die Hälfte davon, nämlich 83 nm, was fast identisch mit der Periode ist, die durch die strenge numerische Simulation erhalten wurde. Dadurch wird die Gültigkeit des GPMS-Modells sowohl durch numerische als auch durch analytische Methoden bestätigt.

Darüber hinaus kann das GPMS mit großer Flexibilität abgestimmt werden, da viele Parameter wie die Dicke der dielektrischen Materialien und die Permittivität des Metalls und Dielektrikums geändert werden können, sodass die Wellenlänge der SPs abgestimmt werden kann. Hier wird Ag aufgrund seines geringen Ausbreitungsverlusts als metallisches Material gewählt und daher können SPs mit einer großen Ausbreitungslänge unterstützt werden. Obwohl in unserem GPMS das metallische Schlickarray zur Erzeugung von Interferenz-SPs verwendet wurde, können auch andere Kopplungselemente wie halbkreisförmiger Schlick17 und die computerentwickelte Metaoberfläche31 verwendet werden, um zusätzliche Formen von SPs-Interferenzmustern zu erzeugen. Durch den Einsatz von GPMS kann aufgrund der periodischen Eigenschaft des Schlitzarrays eine hochauflösende Bildgebung in einem sehr großen weiten Feld realisiert werden. Aus dem Farbbalken in Abb. 2(a) geht hervor, dass die Intensität der stehenden SPs im Wasserfilm etwa 0,6 I0 beträgt (I0 ist die Intensität des einfallenden Lichts), was viel stärker ist als die Intensität, die mit herkömmlichen mehrschichtigen Metamaterialien erzielt wird. Dies kommt der Anwendung bei der Bildgebung biologischer Proben zugute, da der Einsatz einer Hochleistungslaserquelle entfällt. Allerdings beträgt die Eindringtiefe der stehenden SPs in das Wassermedium nur etwa 30 nm, was viel kürzer ist als die in der gewöhnlichen Ag-Luft-Struktur.

Zusammenfassend wurde in dieser Arbeit eine Gradienten-Permittivitäts-Metamaterialstruktur (GPMS) demonstriert. Das GPMS zeichnet sich durch eine Gradientenpermittivität aus, da nur wenige Schichten alternativer dielektrischer/metallischer Filme verwendet werden. Im Vergleich zur herkömmlichen mehrschichtigen Metamaterialstruktur ist GPMS einfacher und eleganter, kann aber dennoch SPs-Wellen mit einem noch höheren Wellenvektor unterstützen. Die Gültigkeit des GPMS für die Unterstützung kurzwelliger SPs-Wellen wurde durch den Einsatz strenger numerischer und analytischer Methoden nachgewiesen und die Ergebnisse zeigen eine gute Übereinstimmung für beide Methoden. Es wurde festgestellt, dass die Periode des SPs-Interferenzmusters nur etwa 0,16 der Wellenlänge des einfallenden Lichts beträgt. Die mögliche Anwendung dieses tiefen Subwellenlängen-SPs-Interferenzmusters auf hochauflösende Bildgebung wurde ebenfalls diskutiert. Es zeigt sich, dass das rekonstruierte Quantenpunktbild eine 5,6-fache Verbesserung der Auflösung im Vergleich zu der der herkömmlichen Epifluoreszenzmikroskopie aufweist. Darüber hinaus kann die Wellenlänge der stehenden SPs durch Ändern der Parameter des GPMS abgestimmt werden. Alle diese Vorteile von GPMS versprechen große potenzielle Anwendungen im Bereich der hochauflösenden biomedizinischen Bildgebung sowie in der Nanolithographie.

Alle numerischen Simulationen des GPMS in diesem Artikel wurden mit kommerzieller Finite-Difference-Time-Domain-Software (FDTD) (FDTD Solutions) durchgeführt, die von Lumerical Solutions, Inc. entwickelt wurde. Der Netztyp mit hoher Genauigkeit, d. h. die 6. Ebene des automatisch ungleichmäßigen Netzes Typ, wurde verwendet, um ein zuverlässiges Ergebnis zu gewährleisten. Zur Berechnung und Analyse des GPMS wurde ein FDTD-Simulationsbereich von 1 × 1 × 1 μm3 mit Periodical Boundary (PB) in x- und y-Richtung und Perfectly Matched Layers (PML) als absorbierenden Randbedingungen in z-Richtung verwendet. Darüber hinaus wurde in der Region, in der SPs vorhanden sind, ein feinerer Netzbereich mit kleinen Würfeln von 4 × 4 × 4 nm3 angewendet, während an anderen Stellen ein groberer Netzbereich angewendet wurde. Frequenzbereichs-Feld- und Leistungsmonitore in FDTD bei y = 0 nm, z = 192 nm wurden verwendet, um die Verteilungen des elektrischen Feldes in diesen Ebenen zu untersuchen.

Zitierweise für diesen Artikel: Cao, S. et al. Gradientenpermittivitäts-Metastrukturmodell für Weitfeld-Superauflösungsbildgebung mit einer Auflösung unter 45 nm. Wissenschaft. Rep. 6, 23460; doi: 10.1038/srep23460 (2016).

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Die Autoren danken der Natural Science Foundation of China für die finanzielle Unterstützung unter den Fördernummern 61361166004, 61490712 und 61475156.

Staatliches Schlüssellabor für Angewandte Optik, Changchun-Institut für Optik, Feinmechanik und Physik, Chinesische Akademie der Wissenschaften, Nr. 3888, Dongnanhu Road, Changchun, Jilin, VR China

Shun Cao, Taisheng Wang, Wenbin Xu, Hua Liu und Hongxin Zhang

Universität der Chinesischen Akademie der Wissenschaften, Peking, 10039, VR China

Meide Cao

Schlüssellabor für Spektralbildgebungstechnologie, Xi'an-Institut für Optik und Präzisionsmechanik, Chinesische Akademie der Wissenschaften, Nr. 17, Xinxi Road, Xian, 710119, VR China

Bingliang Hu & Weixing Yu

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SC führte die Simulation und die Analyse der Ergebnisse durch, TW, WX, HL, HZ und BH trugen zur Diskussion der Ergebnisse bei, WY überwachte diese Arbeit, SC und WY erstellten das Manuskript.

Korrespondenz mit Weixing Yu.

Die Autoren geben an, dass keine konkurrierenden finanziellen Interessen bestehen.

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Nachdrucke und Genehmigungen

Cao, S., Wang, T., Xu, W. et al. Gradientenpermittivitäts-Metastrukturmodell für Weitfeld-Superauflösungsbildgebung mit einer Auflösung unter 45 nm. Sci Rep 6, 23460 (2016). https://doi.org/10.1038/srep23460

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Eingegangen: 14. Januar 2016

Angenommen: 07. März 2016

Veröffentlicht: 21. März 2016

DOI: https://doi.org/10.1038/srep23460

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Wissenschaftliche Berichte (2017)

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